7月22日，安徽省首片半導(dǎo)體光刻掩模版成功亮相。據(jù)悉，該掩膜版由晶合集成生產(chǎn)，意味著晶合集成在晶圓代工領(lǐng)域成為臺(tái)積電、中芯國(guó)際之后，可提供資料、光刻掩模版、晶圓代工全方位服務(wù)的綜合性企業(yè)。

目前，晶合集成可提供28-150納米的光刻掩模版服務(wù)，將于今年四季度正式量產(chǎn)，服務(wù)范圍包括光刻掩模版設(shè)計(jì)、制造、測(cè)試及認(rèn)證等，計(jì)劃為晶合客戶(hù)提供4萬(wàn)片/年的產(chǎn)能支持。

掩模版制造是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，而掩模版則是連通芯片設(shè)計(jì)和制造的紐帶，其作用在于承載設(shè)計(jì)圖形，通過(guò)光線(xiàn)透射將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，是光刻工藝中不可或缺的部件。

國(guó)內(nèi)多個(gè)相關(guān)項(xiàng)目迎來(lái)新進(jìn)展

除了晶合集成外，今年以來(lái)，江蘇路芯半導(dǎo)體、清溢光電、無(wú)錫迪思等國(guó)內(nèi)多個(gè)相關(guān)項(xiàng)目迎來(lái)了新的進(jìn)展。

今年1月，江蘇路芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司掩膜版生產(chǎn)項(xiàng)目奠基開(kāi)工。

據(jù)“蘇州工業(yè)園區(qū)發(fā)布”介紹，該項(xiàng)目擬投資20億元，占地面積74畝，建成后具備年產(chǎn)約35000片半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)能力，技術(shù)節(jié)點(diǎn)達(dá)到28nm，可廣泛應(yīng)用于高性能計(jì)算、人工智能、移動(dòng)通信、智能電網(wǎng)、高速軌道交通、新能源汽車(chē)等眾多產(chǎn)業(yè)涉及的集成電路半導(dǎo)體芯片制造、封裝等領(lǐng)域。

項(xiàng)目分兩期建設(shè)，一期規(guī)劃生產(chǎn)45nm及以上的節(jié)點(diǎn)掩膜版；二期規(guī)劃生產(chǎn)28nm及以上的節(jié)點(diǎn)掩膜版，預(yù)計(jì)2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

今年3月，清溢光電“平板顯示及半導(dǎo)體用掩膜版”生產(chǎn)基地（佛山南海）建設(shè)項(xiàng)目正式開(kāi)工。

據(jù)悉，該項(xiàng)目總體投資約35億元，將建設(shè)平板顯示配套掩膜版生產(chǎn)線(xiàn)、半導(dǎo)體IC配套掩膜版生產(chǎn)線(xiàn)，實(shí)現(xiàn)250—28nm光掩膜版量產(chǎn)，滿(mǎn)足8寸和12寸晶圓廠掩膜版需求，年產(chǎn)光掩膜版80000片。

其中，“高端半導(dǎo)體掩膜版生產(chǎn)基地建設(shè)項(xiàng)目一期”的產(chǎn)品覆蓋250nm-65nm制程的高端半導(dǎo)體掩膜版。高端半導(dǎo)體掩膜版項(xiàng)目計(jì)劃總投資6億元，可提高公司半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)品的技術(shù)能力和產(chǎn)能，優(yōu)化半導(dǎo)體掩膜版的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，可逐步實(shí)現(xiàn)130nm、65nm以及更高節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體掩膜版的量產(chǎn)，提升清溢光電在半導(dǎo)體掩膜版行業(yè)供給能力。

7月中旬，無(wú)錫迪思高端掩模項(xiàng)目完成關(guān)鍵設(shè)備安裝調(diào)試，產(chǎn)線(xiàn)順利貫通，并于7月12日完成首套90nm高端掩模產(chǎn)品的生產(chǎn)與交付。

據(jù)“無(wú)錫高新區(qū)商務(wù)局”介紹，無(wú)錫迪思是華潤(rùn)微電子旗下子公司，是國(guó)內(nèi)最早從事光掩模制造的專(zhuān)業(yè)企業(yè)之一。自2021年以來(lái)，無(wú)錫迪思順利實(shí)施兩輪融資，在無(wú)錫高新區(qū)投資約20億元，建設(shè)高端掩模項(xiàng)目。該于2022年11月開(kāi)工，歷經(jīng)18個(gè)月，相繼完成廠房封頂、設(shè)備搬入、工藝調(diào)試、產(chǎn)線(xiàn)貫通等重大里程碑任務(wù)。

據(jù)悉，2024年下半年無(wú)錫迪思將聚焦90nm制程量產(chǎn)，2025年完成40nm量產(chǎn)，2026年實(shí)現(xiàn)28nm升級(jí)，持續(xù)增強(qiáng)核心競(jìng)爭(zhēng)力。項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)后，將新增90nm-28nm高端掩模版產(chǎn)能2000片/月，總產(chǎn)能達(dá)5000片/月。

此外，寧波前灣新區(qū)管理委員會(huì)官網(wǎng)消息，近日，寧波冠石半導(dǎo)體有限公司迎來(lái)關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)，企業(yè)引入首臺(tái)電子束掩模版光刻機(jī)。據(jù)悉，該設(shè)備是光掩模版40納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)量產(chǎn)及28納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)研發(fā)的重點(diǎn)設(shè)備。

目前，我國(guó)高精度半導(dǎo)體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴(lài)于進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率極低。據(jù)冠石相關(guān)負(fù)責(zé)人介紹，企業(yè)正加速推進(jìn)海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導(dǎo)體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下，預(yù)計(jì)今年底，企業(yè)將陸續(xù)實(shí)現(xiàn)為國(guó)內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務(wù)。