美企研發(fā)全新光刻機(jī),造出0.7nm芯片
- 發(fā)布時(shí)間:2022-09-29 15:32:03
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來源:維科網(wǎng) 作者:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
眾所周知,目前最頂尖的光刻機(jī)是ASML的EUV光刻機(jī),能夠制造3nm的芯片。且在ASML的規(guī)劃中,到2024年或2025年會(huì)交付全新一代的High-NA極紫外光刻機(jī)。
這種EUV光刻機(jī),數(shù)值孔徑變?yōu)?.55NA,也就是解析度(精度)為8nm,可以制造2nm,以及1.8nm的芯片。
至于1.8nm以下,用什么光刻機(jī)?反正ASML現(xiàn)在還沒規(guī)劃,因?yàn)?.8nm后,技術(shù)又會(huì)怎么樣變化,誰(shuí)也不清楚。
但近日,美國(guó)一家公司Zyvex,利用一種完全不同于EUV光刻機(jī)的技術(shù),制造出了768皮米,也就是0.7nm的芯片。
而0.7nm,差不多相當(dāng)于2個(gè)硅原子的寬度,也是理論上硅基芯片的最高精度,所以很多人認(rèn)為,當(dāng)芯片精度達(dá)到了1.8nm以后,可能EUV光刻機(jī)也不行了,要使用Zyvex公司研發(fā)出的這種光刻技術(shù)了。
Zyvex公司的光刻技術(shù),是啥技術(shù)?其光刻系統(tǒng)命名為為ZyvexLitho1,是基于STM掃描隧道顯微鏡,使用的是EBL電子束光刻方式,與極紫外線沒有任何關(guān)系,稱之為電子束光刻機(jī),可能更合適一點(diǎn)。
按照Z(yǔ)yvex的說法,這臺(tái)ZyvexLitho1是可以商用的,還可以接受別人的訂單,具體多少錢一臺(tái),不清楚,但機(jī)器對(duì)方可以在6個(gè)月內(nèi)出貨。
雖然可以對(duì)外出貨,但國(guó)廠商,想要買到它,可能就千難萬(wàn)難了,基本不太可能,畢竟EUV光刻機(jī)都買不到,更不要說精度更高的電子束光刻機(jī)了。
當(dāng)然,硅基芯片,也不需要這種電子束光刻機(jī),這么高的精度更多還是用于量子計(jì)算芯片,制造出一些高精度的量子器件,納米器材等。
另外就是,EBL電子束光刻機(jī),產(chǎn)能非常低,至少在目前大規(guī)模制造芯片也不現(xiàn)實(shí),只能小規(guī)模的制造量子計(jì)算的芯片,至于未來能不能技術(shù)改進(jìn),提高產(chǎn)能,進(jìn)而取代EUV光刻機(jī),還不清楚。
但這或許也意味著在EUV光刻機(jī)后,EBL電子束光刻機(jī)是一個(gè)新的方向,你覺得呢?
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