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SiC器件技術(shù)的應用發(fā)展及可靠性測試

  • 發(fā)布時間:2022-09-29 14:31:03
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來源:成都中冷低溫科技有限公司

http://www.chinacryo.cn/blog/_861454_353709.html

 

一 、碳化硅(SiCk)源于材料特性的益處:

①阻斷電壓更高,導通電阻更低

②在高壓中以單極性工作→降低功率損耗,提高效率

③在高壓中高速開關(guān)運作→簡化系統(tǒng)設計

④更高的抗宇宙射線故障能力

 

二、CoolSiCTM MOSFET碳化硅的好處和目標應用:

半導體設計的持續(xù)發(fā)展趨勢,是在降低開關(guān)損耗的基礎上,提高功率密度,從而使用更小的散熱器,同時提高工作頻率,縮小磁性元件尺寸。

三、節(jié)能及系統(tǒng)集成度推動電力電子應用的發(fā)展

1、采用現(xiàn)代溝槽CoolSiCTM技術(shù)帶來了新機遇

平面DMOS:在導通狀態(tài)下,需要在性能及柵極氧化層可靠性之間作取舍;

溝槽Trench:在不違反柵極氧化層可靠性的條件下,更容易達到性能要求。

在相當于IGBT的可靠性水平時達到最佳的Rdson

2、CoolSiCTM  MOSFE具有與Si IGBT接近的氧化層可靠性:

①與現(xiàn)有的SiC MOSFET相比,具有出色的可靠性;

②可靠性接近Si IGBT

 

四、擴展可靠性測試及應用相關(guān)測試

①當前標準中的可靠性測試不足以滿足未來戶外應用的要求;

②測試新型SiC溝道MOSFET使用高于這些標準的可靠性測試及應用相關(guān)測試;

③進行了靜態(tài)和動態(tài)測試。

          中冷低溫科技研發(fā)的ThermoStream TS-780高低溫沖擊氣流儀的性能達到了極高的標準。能夠應用于特性分析、高低溫溫變測試、溫度沖擊測試、失效分析等可靠性試驗如:IGBT的試驗也可以使用該氣流儀,不僅如此,這些也同樣可用TS-780做測試:芯片、微電子器件、集成電路(SOC、FPGA、PLD、MCU、ADC/DAC、DSP等);閃存Flash、UFS、eMMC;PCBs、MCMs、MEMS、傳感器、小型模塊組件;光通訊(如:收發(fā)器 Transceiver 高低溫測試、SFP 光模塊高低溫測試等);以及其它電子行業(yè)、航空航天新材料、實驗室研究。TS-780溫度轉(zhuǎn)換從-55℃到+125℃之間轉(zhuǎn)換約10秒,并有更廣泛的溫度范圍-80℃到+225℃;經(jīng)長期的多工況驗證,能滿足更多生產(chǎn)環(huán)境和工程環(huán)境的要求。TS-780是純機械制冷,無需液氮或任何其他消耗性制冷劑,溫度轉(zhuǎn)換速率快,·溫控精度±1℃,顯示精度±0.1℃,氣流量可高達18SCFM,用TS-780做可靠性試驗不僅減少了器件潛在的各種誤差及失效機制,還有效地控制和保證器件的可靠性。

THE END

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